Мы предлагаем интересную работу в отличной команде

Приглашаем к общению в нашем корпоративном блоге

Посетите наш видеоканал

Новости компании

2015-08-13
Приглашаем на технологический семинар «Современные высокоэффективные технологические решения для производства полупроводниковых пластин и подложек»

10 сентября 2015 г. Группа компаний Остек проведет семинар «Современные высокоэффективные технологические решения для производства полупроводниковых пластин и подложек», который пройдет в Москве, в офисе Остека.

2015-06-19
Вышел новый номер научно-практического журнала «Вектор высоких технологий» № 3(16), июнь 2015

Читайте в июньском выпуске научно-практического журнала «Вектор высоких технологий» № 3 (16) 2015:

2015-04-21
Группа компаний Остек приглашает принять участие в семинаре «Сборка компонентов на основе керамики (LTCC, HTCC и др.)»

Уважаемые разработчики и производители электроники!

20 мая 2015 года Группа компаний Остек приглашает вас принять участие в семинаре «Сборка компонентов на основе керамики (LTCC, HTCC и др.)», который пройдет в Москве, в офисе Остека.

Новости отрасли

2015-08-24
Компания Advanced Dicing Technologies вошла в десятку лучших мировых поставщиков оборудования

Компания Advanced Dicing Technologies, ведущий производитель оборудования для дисковой резки пластин, завоевала второе место в рейтинге поставщиков оборудования в категории «Оборудование для сборки» по версии агентства VLSI Research.

2015-07-23
Компания EV Group выводит наноимпринтную литографию на новый уровень с помощью систем HERCULES® NIL

Компания EV Group (EVG), ведущий производитель систем сварки пластин и литографического оборудования для МЭМС, нанотехнологии и полупроводниковой промышленности, представила полностью интегрированную систему HERCULES® NIL, которая позволяет осуществлять очистку, нанесение фоторезиста, термическую обработку и полноразмерную наноимпринтную литографию в одной системе. Обеспечивая ведущую в отрасли производительность, HERCULES NIL представляет собой законченное решение для УФ НИЛ, идеально подходящее для массового производства в быстрорастущей области фотоники. Система обеспечивает формирование структур размерами от десятков нанометров до нескольких микрометров, которые позволяют варьировать или улучшать оптический отклик поверхностей и устройств, в том числе просветляющих слоев, светофильтров, оптических волноводов, структурированных сапфировых подложек, используемых при производстве светодиодов и т. д. Другими активно развивающимися областями применения НИЛ являются МЭМС, НЭМС, биотехнология и наноэлектроника.

2015-07-17
Компания Nordson MARCH представляет новые системы плазменной обработки серии SPHERE для полупроводниковой промышленности

Компания Nordson MARCH, мировой лидер в области систем плазменной обработки, объявила о начале выпуска систем серии SPHERE для областей корпусирования на уровне пластин и трехмерной интеграции. Построенная на базе серии TRACK новая линейка включает в себя системы TrophoSPHERE™ и StratoSPHERE™. Эти системы позволяют осуществлять очистку поверхностей от органических загрязнений, удалять фоторезисты и полимерные пленки, осуществлять травление диэлектриков, обработку столбиковых выводов на полупроводниковых пластинах и снимать напряжение пластин. Обе системы поддерживают автоматизированное перемещение, обработку круглых и квадратных пластин, а также позволяют работать с тонкими пластинами, как на носителе, так и без него.

Форма отправки сообщения

* - поля, обязательные для заполнения